La Dra. Tania Sandoval, del Departamento de Ingeniería Química y Ambiental, fue reconocida por la American Vacuum Society (AVS) con el galardón “Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award”, convirtiéndose en la primera mujer y la primera latinoamericana en recibir este premio.
Por su destacada trayectoria en investigación y su aporte a la American Vacuum Society (AVS), la académica del Departamento de Ingeniería Química y Ambiental de la Universidad Técnica Federico Santa María, Tania Sandoval, fue galardonada con el “AVS Thin Film Division Paul Holloway Young Investigator Award”.
Sandoval –que integra esta asociación desde 2014– recibió el reconocimiento durante el simposio internacional anual de la AVS, desarrollado este año en Charlotte, Carolina del Norte, en el cual se reunieron los miembros de las diferentes divisiones de la entidad, empresas e invitados externos, fomentando un entorno multidisciplinario para abordar investigación en ciencia y tecnología en el área de síntesis, interfaces y procesamiento de materiales con la comunidad científica e industria relacionada.
Este premio destaca la carrera de investigadores jóvenes que hayan terminado su doctorado hasta un periodo máximo de siete años. “Me siento muy honrada de haber recibido este premio, porque la división de Thin Film, que es de la cual formo parte, tiene un grupo importante de personas haciendo investigación de muy buen nivel y desde muy temprano en su carrera. Creo que este premio es un reconocimiento al trabajo que hemos venido desarrollando en el laboratorio Nanolab con mi equipo de investigación”, afirma Sandoval, quien es la primera mujer y latinoamericana en recibir este galardón.
“También estoy feliz por ser la primera mujer en recibir este premio, ya que la división de Thin Film de AVS es un área con un gran porcentaje de integrantes hombres, y la mayoría de Estados Unidos y Europa. Estoy orgullosa de ir posicionando al laboratorio y a la Universidad Técnica Federico Santa María a nivel internacional”, agrega.
Marcando presencia
Durante el evento, la académica de la USM dictó la charla “Descriptor-driven analysis of inhibitors for AS-ALD processes”, en la cual dio a conocer a la comunidad de AVS los principales avances de su investigación, que abarca el control de superficies para realizar la deposición selectiva de materiales.
Sandoval asistió al simposio acompañada por dos integrantes del equipo del laboratorio Nanolab: Lucas Lodeiro y Matías Picuntureo, quienes también realizaron sus respectivas presentaciones del quehacer del laboratorio. A estas charlas se sumaron dos exposiciones asociadas a colaboraciones desarrolladas entre Nanolab y la Universidad Técnica de Eindhoven, Holanda.
“Hemos trabajado por mantener una red internacional de contactos a través de los años, e ir visibilizando el trabajo que realizamos en el laboratorio. Me da orgullo pensar que en Chile podemos estar presentes en esta plataforma internacional, que seamos considerados, escuchados y valorados, y así poder llevar el nombre de la universidad a esas instancias internacionales”, concluye.
Asociación internacional
La American Vacuum Society (AVS) es una asociación científica internacional radicada en Estados Unidos que apoya la creación de redes entre profesionales académicos, industriales, gubernamentales y consultores de diversas disciplinas. Organizada en divisiones técnicas y grupos técnicos que abarcan diversas áreas de la ciencia y la tecnología, cuenta con aproximadamente 4500 miembros en todo el mundo.
